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MOSFET 650 V au carbure de silicium

MOSFET 650 V au carbure de silicium

Nouveaux produits |
Par Alain Dieul



Les nouveaux MOSFET SiC 650 V de classe automobile, qualifiés AECQ101, et de classe industrielle d’ON Semiconductor font appel à un matériau à large bande interdite offrant des performances de commutation supérieures et des caractéristiques thermiques accrues par rapport au silicium. Cela se traduit par un meilleur rendement global, une densité de puissance accrue, une réduction des parasites électromagnétiques (EMI), ainsi qu’une diminution de la taille et du poids global.

Cette nouvelle génération de MOSFET SiC utilise une nouvelle conception de cellule active, associée à une technologie de wafers très minces permettant d’obtenir le meilleur facteur de mérite Rsp (RDS(ON) x surface) de la catégorie, pour une tension de claquage de 650 V. Les NVBG015N065SC1, NTBG015N065SC1, NVH4L015N065SC1 et NTH4L015N065SC1 présentent la RDS(ON) la plus basse (12 mOhm) du marché, en boîtier D2PAK7L ou TO247. Cette technologie est également optimisée en termes de facteur de mérite pour les pertes d’énergie, afin d’optimiser les performances pour les applications automobiles et industrielles. Une résistance de grille interne (Rg) offre aux concepteurs plus de souplesse, en leur évitant d’avoir à ralentir la commutation avec des résistances de grille externes. La plus grande résistance de ces MOSFET aux surtensions, aux avalanches et aux courts-circuits contribue à renforcer leur robustesse, ce qui permet d’accroître leur fiabilité et d’étendre leur durée de vie.

A propos de cette annonce, Asif Jakwani, Vice-Président Senior de la division Advanced Power chez ON Semiconductor, déclare : « Dans les applications de puissance modernes telles que les chargeurs embarqués (OBC) pour VE et d’autres applications comme les énergies renouvelables, l’informatique et les télécommunications d’entreprise, le rendement, la fiabilité et la densité de puissance, représentent des défis constants pour les concepteurs. Ces nouveaux MOSFET SiC apportent un gain de performances considérable par rapport aux technologies de commutation silicium, ce qui permet aux concepteurs d’atteindre des objectifs ambitieux. L’amélioration des performances permet de réduire les pertes, ce qui améliore le rendement et réduit les besoins de gestion thermique, ainsi que les parasites électromagnétiques. Au bout du compte, utiliser ces nouveaux MOSFET SiC permet d’obtenir une solution plus compacte, plus légère, plus fiable, et offrant un meilleur rendement. »

www.onsemi.com

           

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