PISTOL : une nouvelle chaire dans le domaine des semi-conducteurs

06 février 2018 // Par D.Cardon
L’Agence nationale de la recherche, le CNRS, l’École polytechnique et Total ont annoncé la création de la chaire industrielle ANR PISTOL1 . Cette chaire rassemble une équipe de recherche commune dont l'objectif est  de développer de nouveaux procédés de traitement par plasma pour les semiconducteurs. L’enjeu scientifique de cette chaire est de faire émerger de nouvelles applications dans les domaines du photovoltaïque, de la microélectronique et des nouvelles générations de capteurs et d’écrans.

Ce projet est financé à parts égales par Total et l’Agence Nationale de la Recherche sur une période de quatre ans. Il est porté par Erik Johnson, chercheur CNRS au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS / l’École polytechnique).

Les principaux objectifs de la Chaire industrielle PISTOL portent sur la mise en œuvre de nouveaux procédés de traitements par plasma pour les semi-conducteurs. Les procédés basés sur les plasmas sont des techniques largement répandues dans l'industrie pour la croissance contrôlée de matériaux (écrans plats, photovoltaïque, capteurs,...) ou la gravure de très grande qualité en terme d’uniformité sur des surfaces importantes (microélectronique).